热蒸发镀膜系统

型号：TH-LC4-A0X / TH-LC6-A0X / TH-LC8-A0X

品牌：SYSKEY

分类：真空镀膜设备

简述：在真空环境下用热阻丝加热的方式将材料加热到蒸发，真空腔室内的基片和衬底表面会形成薄膜或涂层，此过程被称为真空热蒸镀，加热材料的方式主要有热舟式和坩埚式。

SYSKEY

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Thermal Evaporation

在真空环境下用热阻丝加热的方式将材料加热到蒸发，真空腔室内的基片和衬底表面会形成薄膜或涂层，此过程被称为真空热蒸镀，加热材料的方式主要有热舟式和坩埚式。

真空热蒸发原理图

由于受到热阻丝加热温度的限制，热舟蒸发镀膜仅仅适用于低熔点和合适蒸气压的材料，例如常用的导电金属，Au, Cu, Al, Ag 等，离子化合物，LiF, MgF2 等。热舟的材质和形状（容量）需根据应用场景来选择。客户也可根据特殊的材料体系来设计特殊的蒸发舟。

热舟选型

除了热舟蒸发之外，还可选择坩埚式蒸发源，坩埚式蒸发源的特点是，容量大，适用于较低蒸发温度的材料，例如有机物蒸发，广泛被应用于OLED，OPV，薄膜锂电池，钙钛矿太阳能电池等热门领域。

热舟蒸发和坩埚式热蒸发

系统的自动控制采用的是石英晶振自动控制的 Rate Control 镀膜机制，在整个薄膜形成过程中，蒸发速率是恒定的，在累积到目标薄膜厚度时，系统会自动结束镀膜，以实现厚度的精确控制。

Rate control 原理

根据客户不同的真空度要求，我们可定制真空系统，其中包括高真空版本（5 × 10^-7 Torr），近超高真空版本（5 × 10^-9 Torr），以及超高真空版本（5 × 10^-10 Torr），以满足不同应用领域和薄膜质量的需求。对于基底材料的特殊要求，我们可提供不同功能的样品台，可实现加热、循环水冷却、液氮冷却和等离子体清洗。