X-tool 自动化X射线光电子微探针能谱仪

型号：X-tool

品牌：PHI

分类：X射线光电子能谱XPS

简述：PHI X-tool 是 PHI XPS 系列产品中的新成员。（同时结合了PHI Quantera-II 和PHI VersaProbe-III的功能）PHI X-tool 设计的主要目的在于降低对操作人员个人经验的要求，操作人员可触屏操作，就可完成自动进样、自动检测分析、自动生成测试报告。PHI X-tool 消除了操作人员对表面分析经验不足的问题，使分析工作变得更简单，且更有效率。

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特点

配有多种样品观察系统

     ● X-tool 中包括了多种样品观察系统，可方便地做出样品定位。使用者在分析时可采用合适的方式去进行定位并精准地找到需要分析的位置。



a) 进样室照片 – 可浏览整个 75×75 mm的样品托上的所有样品，方便快速定位。
b) 样品实时光学影像 – 可实时的知道目前样品在仪器内部所准备分析的位置。
c) SXI 扫描X射线成像 – 直接由X射线产生的二次电子像，百分之百精准的微区定位分析。


可以非常简易地进行自动分析操作

     ● X-tool 在基于 PHI 公司专利的扫描聚焦型X射线的设计的基础上，再加上 X-tool 上新开发的非常简易的触碰屏操作软件，不管是大于 1.4 mm 的大面积分析，还是小于 50 um 的小区域分析，都可通过 3 个简单的程序在自动的分析队形中一次性完成设定，大大增加了仪器的效率和效益。




高速的化学态成像分析

     ● 扫描聚焦 X 射线系统配合高灵敏度的探测器，PHI X-tool 可以在 Unscan 模式的采谱方式下快速地完成 XPS 的成像分析，成像的过程永远是先谱后图而非带有高度不确定性的先图后谱。所得的数据可使用 PHI MultiPak 分析数据软件去进行 Linear Least Square (LLS) 处理，得到化学态成像的精准结果。



C 1s 有机碳污染分布 / C 1s有机碳中和氧有键结的结构分布 / O 1s 的分布 / 2种不同的C 1s化学态的分布迭图


先进的硬件设计

     ● PHI X-tool 的微聚焦X射线可以把分析面积范围设定在 20 um 到 1.4 mm 之间，而且系统配备了 PHI 的全自动双束中和系统，可以一次性地对不管是大面积或微区样品，导体或绝缘体，有机或无机材料进行程序化自动分析，也可对样品材料表面进行面扫成像。PHI X-tool 上更配有离子源，可对样品刻蚀以进行 XPS 的深度分析。





应用范围

     ● Micro-Electronics 微电子，电子封装

     ● Polymer 高分子材料

     ● Tribology 摩擦学

     ● Magnetic 磁性材料，硬盘，蓝光光盘

     ● Display Industries 显示工业

     ● Graphene 石墨烯

     ● Catalysis 催化剂

     ● Energy-related 能源产业

     ● Glass 玻璃

     ● Metal 金属

     ● Ceramic 陶瓷

     ● Semi-conductors 半导体

     ● Bio-Medical 生医科学