Q235 等离子去胶机

型号：Q235

品牌：ALPHA PLASMA

分类：等离子去胶设备

简述：主要应用晶圆显影后的底胶去除或者干法蚀刻工艺后变性的光刻胶去除，光刻胶的去除及对样片是否有损伤，将影响到后续工艺和器件的性能。

ALPHA PLASMA

相关产品

     ● 应用领域：高剂量离子注入光刻胶的去除，湿法或干法刻蚀前后残胶去除，MEMS 中牺牲层的去除，去除化学残余物，去浮渣工艺，SU-8 光刻胶去除等

     ● 设备优势：去胶速度快，对产品损伤小，设计紧凑，操作简单

     ● 工艺腔室：石英材质，11 升

     ● 样品尺寸：6 寸，向下兼容（最大可支持 8 寸）

     ● 腔门：抽屉式，带观察窗

     ● 微波源：2.45GHz，50 - 600W 可调

     ● 气路：标配两路工艺气体，带质量流量计(可升级至 4 路）

     ● 真空规：pirani，1-1×105Pa

     ● 真空泵：干泵或油泵可选

     ● 控制系统：10.4 寸触摸屏，Windows系统，图形化操作界面

     ● 电力需求：3 / N / PE AC 50Hz 400 / 240V 16A

     ● 整机尺寸：620(W) × 550(D) × 500(H) mm


典型应用

     ● 等离子去胶，适合小批量生产，也适合于研发、实验室

     ● 去除光刻胶

     ● 干刻或湿刻处理前或后

     ● SU-8 或其他环氧基树脂

     ● MEMS 制造中去除牺牲层


技术规格

     ● 等离子源：2.45Ghz 微波等离子源，600W

     ● 腔体 ：石英 .φ235mm，长 260mm
                    适用于 Wafer 最大 200mm（8英寸）小批生产及实验

     ● 外观尺寸：长 460mm，宽 590mm，高 550mm

     ● 处理气体：2 路气体+数字 MKS 流量控制器

     ● 真空腔门：抽屉式门+观察窗

     ● 温控 Wafer Chuck

     ● 观察窗 ：UV 与微波屏蔽保护

     ● GUI 7" 触摸屏，Window CE 操作系统


选项

     ● 进口干泵系统（含相关附件）

     ● 法拉第笼

     ● 石英舟

     ● 信号灯塔-红黄绿三色

     ● 额外的处理气体线路-最多至 4 路气体

     ● 包装，运输