ASTRO PACT-10H 等离子去胶机

型号：ASTRO PACT-10H

品牌：ALPHA PLASMA

分类：等离子去胶设备

简述：主要应用晶圆显影后的底胶去除或者干法蚀刻工艺后变性的光刻胶去除，光刻胶的去除及对样片是否有损伤，将影响到后续工艺和器件的性能。

ALPHA PLASMA

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● 应用领域：高剂量离子注入光刻胶的去除，湿法或干法刻蚀前后残胶去除，MEMS 中牺牲层的去除，去除化学残余物，去浮渣工艺，SU-8 光刻胶去除等

● 优势：去胶速度快，对产品损伤小，设计紧凑，操作简单

● 工艺腔室：铝材质，尺寸 350(W)×350(D)×170(H)mm

● 样品尺寸：12 寸，向下兼容

● 腔门：抽屉式带加热台盘 60 - 200℃（选配 250℃ 加热台盘），带观察窗

● 微波源：2.45GHz，最大 1200W

● 气路：标配两路工艺气体，带质量流量计（可升级至 4 路）

● 真空规：Pirani，PCR280 Standard

● 真空泵：干泵或油泵可选

● 控制系统：10.4 寸触摸屏，Windows系统，图形化操作界面

● 电力需求：3 / N / PE AC 50Hz 400 / 240V 16A

● 整机尺寸：560(W)×770(D)×770(H)mm