型号:610
品牌:EVG
分类:光刻/键合
简述:EVG 610 光刻机主要应用于半导体、微电子、光电、生物医疗等领域,在生产精密电子元件、微型机械元件和光学元件等方面有着广泛的应用。
主要特点及参数
● 高分辨率:可实现高质量图像制作,提高半导体器件的性能
● 灵活性:适用于各种不同类型的器件,如MEMS、晶体管和图像传感器等
● 高效率:采用先进的光学和机械技术,可在短时间内完成大量生产任务
● 高精度:采用高精度光学系统和控制技术,保证图像的精确性和一致性
● 稳定性:通过对光路的精细调整和控制,保证生产的稳定性
● 安全性:通过安全保护系统,保证生产过程的安全
● 光源:KrF 激光
● 光路系统:F-Theta 镜片
● 系统控制:通过软件控制,提供方便快捷的生产操作
EVG 610 光刻机的工作过程如下:
1. 进料:将待制作的半导体器件通过输送系统送入光刻机
2. 光学对准:通过光学对准系统将待制作的器件与光学系统对齐
3. 曝光:使用 KrF 激光对器件进行曝光,形成图像
4. 开发:使用开发液对曝光后的图像进行处理,形成最终图形
5. 刻蚀:将图形转移到器件表面,形成最终的半导体元件
6. 出料:将制作完成的半导体元件通过输送系统送出光刻机
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