R-200 Advance 原子层沉积系统

型号：R-200 Advance

品牌：Picosun

分类：原子层沉积

简述：Picosun R-200 系列原子层沉积系统是一款多功能的原子层沉积平台，是用于研发的理想选择，适用于 IC 器件、MEMS 器件、显示器、LED、激光器以及透镜、光学部件、珠宝、硬币、医疗植入物等 3D 部件的研发。

Picosun

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     ● 适用 2 - 8 inch 晶圆，156mm × 156mm 太阳能硅片

     ● 可适用于多孔，通孔，高深宽比样品（最高可达 1 : 2500）

     ● 工艺温度：50 - 500℃

     ● Advance 型号配有等离子处理系统，工艺温度 450℃（可选配特定chuck盘至 650℃）

     ● 适用镀膜种类：Al2O3，TiO2，SiO2，Ta2O5，HfO2，ZnO，ZrO2，AlN，TiN，Pt，Ir 等

     ● 手动上料，可选配机械臂，搬运机器人或 Cassette-to-Cassette 上料

     ● 前驱体种类：液体、固体、气体、臭氧源、等离子体等