P-300B 原子层沉积系统

型号：P-300B

品牌：Picosun

分类：原子层沉积

简述：PICOSUN™ P-300 系统拥有专利的热壁、完全独立的前驱体管路和特殊的载气设计，确保可以生产出具有优异的成品率、低颗粒水平和卓越的电学和光学性能的高质量 ALD 薄膜。高效紧凑的设计使得维护更加方便、快捷，大限度减少系统的维护停工期和使用成本。拥有专利技术的 Picoflow™ 使得在超高深宽比结构上沉积保形性薄膜更高效，并已在生产线上得到验证。

Picosun

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衬底尺寸和类型

     ● 200mm 晶圆 25片/批次（标准间距）

     ● 150mm 晶圆 50片/批次（标准间距）

     ● 100mm 晶圆 75片/批次（标准间距）

     ● 非标准晶圆类基底（使用定制夹具）

     ● 高深宽比基底（最大深宽比 1 : 2500）


工艺温度

      ● 50°C – 500°C


标准工艺

     ● 批量生产的平均工艺时间小于 10 秒/循环*

     ● Al2O3，SiO2，Ta2O5，HfO2，ZnO，TiO2，ZrO2，AlN，TiN 及各种金属

     ● 同一批次薄膜不均匀性 < 1% 1σ，(Al2O3，WIW，WTW，B2B，49pts，5mm EE)**


基片加载

     ● 气动升降

     ● 手动装载

     ● 线性半自动装载


前驱体

     ● 液态，固态，气态，臭氧源

     ● 源瓶余量传感器，提供清洗和装源服务

     ● 4 根独立的源管线，最多加载 8 个前驱体源