型号:VF-3000
品牌:JTEKT
分类:氧化炉/扩散炉
简述:这款配有自动输送机的低成本立式炉管可用于从研发到批量生产 4 至 8 英寸晶圆的一系列功能。提供超高温处理,非常适合功率器件制造。
概述
该立式炉管可用于 4 英寸到 8 英寸的各种晶圆大小,并可选择小批量处理 50 至 75 片一体式。该立式炉管通过精心选择硬件和控制系统组件来实现低价,可用于从研发到批量生产线等众多功能。从 LGO 加热器、二硅化钼 (MoSi2) 加热器和碳加热器中选择使用一款合适的加热器,不仅可用于低温退火、氮化物 (Si3N4)、多晶硅和其他材料 LPCVD、氧化和扩散处理,还可用于 SiC 功率器件栅硅氧氮化、活化退火和其他超高温处理工艺。
特性
● 面向后端用户的低成本设备
● 小批量、50 至 75 片一体式处理可用于研发及批量生产线
● 提供 4 至 8 英寸晶圆尺寸
● 最多 4 个晶盒储料器
● 使用 LGO 加热器,从低温到中高温都能实现出色的温度控制
● 使用单片式机械手臂实现晶圆高速传送
● 配备功能有限的简单控制系统
规格
外部尺寸:W1200 × D1450 × H2610 mm
加热器:LGO加热器
均热区长度:至 360 mm
晶圆大小:4 至 8 英寸
可放置晶圆的数量:最高 75 片一体式(8 英寸为 50 片一体式)
I/O端口:4
晶盒储料器数量:4
手指:单片式
选配:
强制冷却系统
N2 置换室
可转换晶圆大小
规格
外部尺寸:W1200 × D1450 × H2610 mm
加热器:LGO加热器
均热区长度:至 360 mm
晶圆大小:4 至 8 英寸
可放置晶圆的数量:最高 75 片一体式(8 英寸为 50 片一体式)
I/O端口:4
晶盒储料器数量:4
手指:单片式
选配:
强制冷却系统
N2 置换室
可转换晶圆大小
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