R-200 Standard 原子层沉积系统

型号：R-200 Standard

品牌：Picosun

分类：原子层沉积

简述：PICOSUN® R-200 标准 ALD 系统适用于数十种应用的研发，例如 IC 组件、MEMS 设备、显示器、LED、激光器和 3D 对象，例如透镜、光学器件、珠宝、硬币和医疗植入物。

Picosun

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标准基板尺寸与类型

● 50 mm - 200 mm 单晶片

● 156 mm × 156 mm 太阳能硅晶片

● 3D 对象

● 粉末和颗粒

● 小批量

● 多孔、通孔和高纵横比（高达 1：2500）


工艺温度

● 50℃ - 500℃


标准工艺

● Al2O3、TiO2、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、ZrO2、TiN、AlN、Pt 或 Ir 等金属


基板装载

● 使用气动升降机手动装载

● 带磁性机械臂的负载锁


前驱体

● 液体、固体、气体、臭氧

● 多达 6 个源、带 4 个独立入口


其他选项

● Picoflow™ 扩散增强剂、RGA、N2 发生器、气体洗涤器、定制设计、惰性装载手套箱兼容性